概念

• 5個(gè)濺射頭安裝5種不同材料
• 通過(guò)不同的濺射時(shí)間，5種材料可以濺射出不同組分的產(chǎn)物，
• 選擇5個(gè)等離子射頻電源，可在同一時(shí)間濺射5種材料
• 真空腔體中安裝有旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)，可以制作16個(gè)樣品

電源

單相220 VAC, 50 / 60 Hz

射頻電源

• 一個(gè)13.5MHz,300W自動(dòng)匹配的射頻電源安裝在儀器上，并與靶頭相連接
• 一個(gè)旋轉(zhuǎn)開關(guān)可一次激活一個(gè)濺射頭。濺射頭可以在真空或等離子體環(huán)境中自動(dòng)切換
• 可選購(gòu)多個(gè)射頻電源，同一時(shí)間濺射多個(gè)靶材。
• 所有的濺射參數(shù)，都可由電腦設(shè)置

直流電源（可選）

• 可選購(gòu)直流電源，來(lái)濺射金屬靶材
• 可配置5個(gè)直流或射頻電源，來(lái)同時(shí)濺射5中靶材

磁控濺射頭

• 5個(gè)1英寸的磁控濺射頭，帶有水冷夾層
• 可在本公司額外購(gòu)買射頻線
• 電動(dòng)擋板安裝在濺射腔體內(nèi)
• 設(shè)備中配有一循環(huán)水冷機(jī)，水流量為10L/min
•  (1)  (2) (3) (4)

濺射靶材

• 所要求靶材尺寸：直徑為25.4mm,zui大厚度3mm
• 濺射距離: 50 – 80 mm（可調(diào)）
• 濺射角度: 0 – 25°（可調(diào)）
• 配有銅靶和 Al₂O₃ 靶，用于樣品測(cè)試用
• 可在本公司購(gòu)買各種靶材
• 實(shí)驗(yàn)時(shí)，需要將靶材和銅片粘合，可通過(guò)導(dǎo)電銀漿粘合（可在本公司購(gòu)買導(dǎo)電銀漿）

真空腔體

• 真空腔體采用304不銹鋼制作
• 腔體內(nèi)部尺寸:  470mm L×445mm D×522mm H  (~ 105 L)
• 鉸鏈?zhǔn)角婚T，直徑為Φ380mm,上面安裝有Φ150mm的玻璃窗口
• 真空度: 4E-5 torr （采用分子泵）

樣品臺(tái)

• 直徑為150mm的樣品臺(tái)，上面覆蓋一旋轉(zhuǎn)臺(tái)，帶有10mm的孔洞，每次露出一個(gè)樣品接收濺射成膜。
• 樣品臺(tái)尺寸：Φ150mm,可通過(guò)程序控制來(lái)旋轉(zhuǎn)，可制作16種不同組分的薄膜
• 樣品臺(tái)可以加熱，zui高溫度可達(dá)600℃

真空泵

• 設(shè)備中配有一小型渦旋分子泵
• 真空泵接口為KF40

石英振蕩測(cè)厚儀（可選）

可選購(gòu)精密石英振蕩測(cè)厚儀，安裝在真空腔體內(nèi)，實(shí)時(shí)測(cè)量薄膜的厚度，精確度為0.1 Å（需水冷）

凈重

60kg

質(zhì)量認(rèn)證

CE認(rèn)證

質(zhì)保

一年質(zhì)保期，終生維護(hù)

應(yīng)用注意事項(xiàng)

• 此款設(shè)備設(shè)置主要是在單晶基片上制作氧化物薄膜，所以不需要高真空的環(huán)境
• 所用氣瓶上必須安裝減壓閥（可在本公司購(gòu)買），所用Ar氣純度為5N
• 為了得到較好質(zhì)量的薄膜，可以對(duì)基片進(jìn)行清洗
• 用超聲波清洗機(jī)，用丙酮或乙醇作為清洗介質(zhì)，清除基片表面的油脂，然后在N2氣或真空環(huán)境下對(duì)基片干燥
• 等離子清洗機(jī)，可使基片表面粗糙化，改變基片表面化學(xué)活性，清除表面污染物
• 可在基片表面鍍上緩沖層，如Cr, Ti, Mo, Ta,，可改善金屬或合金膜的粘附性
• 濺射一些非導(dǎo)電靶材，其靶材背后必須附上銅墊片
• 本公司實(shí)驗(yàn)室成功地在Al2O3基片上成功生長(zhǎng)出ZnO外延膜
• 因?yàn)闉R射頭連接著高電壓，所以用戶在放入樣品或更換靶材時(shí)，必須切斷電源
• 不可用自來(lái)水作為冷卻水，以防水垢堵塞水管。應(yīng)該用等離子水，或冷卻介質(zhì)

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